캐논의 NIL 기술(FPA-1200NZ2C)은 5nm 노드에 상응하는 선폭을 구현할 수 있으며, 2026~2027년까지 2nm 로드맵을 보유하고 있고, EUV의 비용 및 에너지 사용량의 일부만으로 가능합니다. 2027년 IAP 출시는 대량 생산을 위한 중요한 평탄화 단계를 해결합니다. 캐논은 낮은 배수로 거래되는 수익성 높은 다각화된 산업체(카메라, 프린터, 의료 영상)로, NIL 촉매는 비대칭적 상승 여력을 제공합니다. 메모리 팹 인증(예: 키옥시아, SK하이닉스)은 재평가를 촉발할 수 있습니다. 리소그래피에서 캐논의 NIL이 실행 가능한 2차 소스가 될 것이라는 베팅으로 CAJPY를 롱하며, 특허로 보호된 해자와 지정학적 호재가 ASML 의존도를 낮춥니다. 입자 결함이 HVM 채택을 막을 수 있으며, 인증 주기는 3~5년이 소요되고, NIL은 메모리에서 틈새로 남아 로직 부문에 진입하지 못할 수 있으며, 캐논의 핵심 사업은 구조적 하락에 직면해 있습니다.
캐논의 NIL 기술(FPA-1200NZ2C)은 5nm 노드에 상응하는 선폭을 구현할 수 있으며, 2026~2027년까지 2nm 로드맵을 보유하고 있고, EUV의 비용 및 에너지 사용량의 일부만으로 가능합니다. 2027년 IAP 출시는 대량 생산을 위한 중요한 평탄화 단계를 해결합니다. 캐논은 낮은 배수로 거래되는 수익성 높은 다각화된 산업체(카메라, 프린터, 의료 영상)로, NIL 촉매는 비대칭적 상승 여력을 제공합니다. 메모리 팹 인증(예: 키옥시아, SK하이닉스)은 재평가를 촉발할 수 있습니다. 리소그래피에서 캐논의 NIL이 실행 가능한 2차 소스가 될 것이라는 베팅으로 CAJPY를 롱하며, 특허로 보호된 해자와 지정학적 호재가 ASML 의존도를 낮춥니다. 입자 결함이 HVM 채택을 막을 수 있으며, 인증 주기는 3~5년이 소요되고, NIL은 메모리에서 틈새로 남아 로직 부문에 진입하지 못할 수 있으며, 캐논의 핵심 사업은 구조적 하락에 직면해 있습니다.